根据计划目标，到2030年，俄罗斯能够自主生产65nm或90nm制程晶圆的国产光刻系统，这将显著提高该国生产微电子产品的能力，但仍将落后于目前全球行业领先水平25至28年。

工业和信息化部近日发布涉及重大技术装备文件，列表包含 国产氟化氪光刻机（110nm），和氟化氩光刻机（65nm）的相关内容。这意味着什么？对 国内半导体行业有何影响？投资机会在哪？

英镑、日元遭遇强劲抛售和中东紧张局势共同支撑了美元，现在所有焦点都转向周五美国非农就业报告。围绕美联储降息路径和美国大选的不确定导致交易员一直对美元采取立场持谨慎态度。 英镑和日元等主要货币的抛售支撑了美… ...

可是，还有人说：别激动。只是误会。那个“8nm”不是重点，它上面那个“65nm”才是。国产芯片还只在65nm的水平，努努力最多也就能够到28nm，离7nm还远得很。

就在大家都觉得这事儿没辙的时候，俄罗斯那边传来个大新闻，说他们造出了生产处理器用的激光器，2026年后每年能装5台，2025年就开始测试了。还说西方的制裁快撑不住了，激光器一投产，90nm、65nm的芯片就能自己造了，相关的材料和设备也都准备好了。

10月3日消息，据俄罗斯媒体CNews报道，俄罗斯政府已拨款超过 2400 亿卢布（25.4 亿美元）支持国产半导体制造所需设备、CAD工具及原材料研发，目标是到 2030 年实现对于国外约70%的半导体设备和材料的国产替代。报道称，已经有 50 ...

日本安川电机公布，由于芯片制造设备电机需求回升，其季度订单量近两年来首次同比增长，但中国的强劲发展和半导体市场的缓慢复苏笼罩着其年度前景。 截至 8 月份的三个月，订单额增长 1%，达到 1263 亿日元（8.6 亿美元），这是七个季度以来的首次增长 ...

事实上，华为的忧虑并不道理，毕竟，芯片制造的一个关键指标是良率。杨光磊也谈到了，这种多次曝光技术，理论上可行，但是问题在于它的良率是多少或者它的功能是多少，多次曝光要进行对准，可能会导致较大误差，进而显著降低良率。

美荷两国并未因此罢手，反而以“违背公平竞争”为由，对中国进行了强烈的谴责。在他们看来，中国的自主研发行为是对现有国际科技秩序的挑战，也是对其技术优势的威胁。然而，这样的指责在事实面前显得站不住脚。中国光刻机的成功，是科研人员辛勤努力的成果，是科技创新 ...

在百强榜单的TOP10中，上海万科位居榜首，年营收高达4297.46亿元，凭借其在城市综合运营方面的创新和服务模式转型，稳固了领先地位。紧随其后的美团，作为国内领先的本地生活服务平台，通过线上线下融合，推动了数字经济的发展。

最近，工信部发布的《首台重大技术装备推广应用指导目录(2024年版)》中，两款国产光刻机的信息引起了广泛关注。特别是那款氟化氩光刻机，更是成为了大家热议的焦点。网上关于它能做多少纳米（nm）芯片的讨论热闹非凡，有人说8nm，有人说14nm，还有人认为最多只能到28nm。

今年9月9日，工信部公布了我国重大技术装备推广目录，氟化氩光刻机分辨率≤65nm，套刻≤8nm，大概可以量产 28nm 工艺的芯片， 国产光刻机官宣后的一段时间，国内外网友沸腾，美荷却保持沉默，官宣近半个月之后，荷兰终于打破了沉默，正式表态了。