根据计划目标，到2030年，俄罗斯能够自主生产65nm或90nm制程晶圆的国产光刻系统，这将显著提高该国生产微电子产品的能力，但仍将落后于目前全球行业领先水平25至28年。

工业和信息化部近日发布涉及重大技术装备文件，列表包含 国产氟化氪光刻机（110nm），和氟化氩光刻机（65nm）的相关内容。这意味着什么？对 国内半导体行业有何影响？投资机会在哪？

英镑、日元遭遇强劲抛售和中东紧张局势共同支撑了美元，现在所有焦点都转向周五美国非农就业报告。围绕美联储降息路径和美国大选的不确定导致交易员一直对美元采取立场持谨慎态度。 英镑和日元等主要货币的抛售支撑了美… ...

Russia's proposed spending on its own chipmaking tools industry by 2030 is 57 times lower than its spending on war against ...

10月3日消息，据俄罗斯媒体CNews报道，俄罗斯政府已拨款超过 2400 亿卢布（25.4 亿美元）支持国产半导体制造所需设备、CAD工具及原材料研发，目标是到 2030 年实现对于国外约70%的半导体设备和材料的国产替代。

在百强榜单的TOP10中，上海万科位居榜首，年营收高达4297.46亿元，凭借其在城市综合运营方面的创新和服务模式转型，稳固了领先地位。紧随其后的美团，作为国内领先的本地生活服务平台，通过线上线下融合，推动了数字经济的发展。

俄罗斯芯片制造商——Angstrem、Mikron等——可以生产各种成熟节点的芯片，包括 65nm 和 ...

事实上，华为的忧虑并不道理，毕竟，芯片制造的一个关键指标是良率。杨光磊也谈到了，这种多次曝光技术，理论上可行，但是问题在于它的良率是多少或者它的功能是多少，多次曝光要进行对准，可能会导致较大误差，进而显著降低良率。

《中国经营报》记者注意到，该文件一经发布后，关于国产光刻机取得大突破的言论“喜大普奔”，还有人把“套刻≤8nm”误认为8nm光刻机。事实上，套刻精度指的是每一层光刻层之间的对准精度，而≤8nm的套刻精度并不一定代表能制造8nm工艺的芯片。

The Chinese government says domestic companies have developed litho tools capable of 65nm and 110nm resolution.

The 65nm 10bit 54MSPS DAC is a 10-bit, current-output digital-to-analog converter(DAC), which was designed with a 65nm 1P6M CMOS technology. The 65nm 10bit 54MSPS DAC has current steering architecture ...

根据初步规划，俄罗斯将于2030年内实现65nm技术国产，同时实现对外国半导体制造设备及材料的70%的替代。 据悉，该计划设计启动110个研发项目 ...